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新型 ALD20 超高純閥專為突破原子層沉積閥技術的極限而設計，從而使流量達到使用現有 ALD 閥所能達到的兩到三倍。該閥門使半導體芯片制造商不僅具有增加產量和提高效率的潛力，而且還可以在不顯著改變工藝的情況下做到這一點。 ALD20 可以在與現有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，從而無需改裝現有設備即可實現更高的性能 第二款標準 ALD20 閥類型具

世偉洛克 超高純隔膜閥（ALD7 系列） 世偉洛克 ALD7 超高純閥提供了在新的或已有的半導體制造設備中，幫助盡可能地提高芯片產量所必需的流量一致性和流通能力、執行機構速度、溫度等級和潔凈度。

我們的高性能 ALD 閥是世偉洛克長期以來在半導體制造業中顯示出迅速積極的技術領導力的一個重要例子。ALD 閥技術問世以來，世偉洛克與半導體行業的客戶密切合作，了解他們的需求，然后打造出 ALD 閥，提供必要的、高水平的精度、一致性、清潔度和高循環壽命，以跟上市場的快速創新步伐。

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