ALD20 提供了客戶對世偉洛克超高純 ALD 閥所期望的可靠性和性能，同時還帶來了先前無法實現的溫度穩定性和流量可能性。這款閥門使制造商能夠試驗不同的工藝和低蒸汽壓化學品，以實現當今和未來開發先進技術所需的均勻氣體沉積。

新型 ALD20 超高純閥專為突破原子層沉積閥技術的極限而設計，從而使流量達到使用現有 ALD 閥所能達到的兩到三倍。該閥門使半導體芯片制造商不僅具有增加產量和提高效率的潛力，而且還可以在不顯著改變工藝的情況下做到這一點。

• ALD20 可以在與現有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，從而無需改裝現有設備即可實現更高的性能

• 第二款標準 ALD20 閥類型具有稍大的占用空間寬度 (1.75 in.)，可產生更高的 1.7 流量系數 — 這也是超高循環壽命超高純閥目前所能提供的最高流量

• 還可提供定制的流量系數

ALD20 的設計能夠在超高循環壽命中促進一致的操作性能得益于以下幾項主要特點：

• 整個閥門和執行機構均可浸入 50°F (10°C) 至 392°F (200°C) 的氣箱中，從而無需在加熱期間隔離執行機構。因此，低蒸汽壓氣體保持在有利于理想流量的溫度下，沉積一致性得以改善

• 316L VIM-VAR 不銹鋼或合金 22 閥體材料選項具有增強的耐腐蝕性，可承受腐蝕性日趨嚴重的介質

• 擁有 5 μin. Ra 表面處理的高度拋光型波紋管支持在超高循環壽命的工藝中進行清潔操作，以實現工藝完整性

• 氣動執行機構可實現高速 (<10 ms) 且可重復的啟動，以實現精確而一致的流量，從而滿足計量要求。

規格